• 미국 정부, 젤싱거 지원 EUV 개발사 xLight에 연방 지원금 1억 5,000만 달러 지급 — 회사는 리소그래피 장비용 신형 전자 기반 광원 개발 예정

    FEL 기반 EUV 광원 프로토타입을 구축하려는 것으로 보인다.

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    미국 본사의 스타트업 xLight는 입자 가속기를 기반으로 하는 EUV 광원 개발 기업으로, 화요일 미국 상무부(Department of Commerce, DoC)와 CHIPS 및 과학법(CHIPS and Science Act)에 따라 1억 5천만 달러 규모의 제안 연방 인센티브에 대한 의향서(LOI)를 체결했습니다. xLight는 올해 초 인텔의 전 CEO인 Pat Gelsinger를 임원 의장으로 영입하며 업계의 주목을 받기 시작했습니다. 이 자금이 승인될 경우, xLight의 자유 전자 레이저(FEL) 기반 광원은 현장 구축과 실질적인 타당성 입증을 통해 상용화 단계에 가까워질 전망입니다.

    트럼프 행정부로부터의 1억 5천만 달러

    xLight의 CEO 겸 CTO인 Nicholas Kelez는 “상무부, 투자자 및 개발 파트너들의 지원을 받아, xLight는 세계 최고의 리소그래피 역량이 칩 제조의 미래를 정의하는 연구 개발을 가능하게 할 올버니 나노테크 복합단지에 최초의 자유 전자 레이저 시스템을 구축하고 있습니다”라고 밝혔습니다.

    트럼프 행정부는 조 바이든 대통령의 CHIPS 및 과학법에 대해 납세자 기금 낭비라며 강한 회의론을 제기해 왔습니다. 하지만 xLight는 기존 CO2 레이저 기반의 레이저 생성 플라즈마(LPP) 광원을 대체할 EUV 리소그래피 장비용 새로운 FEL 기반 광원을 개발할 것을 약속함으로써, 미국 정부의 입장이 달라진 것으로 해석됩니다. 만약 xLight가 자체 기술 개발에 성공하고 이를 ASML의 리소그래피 스캐너와 결합한다면, 미국은 이 핵심 장비들의 글로벌 공급망의 중요한 부분을 장악하게 될 것이며, 이는 현재 미국 지도부에게 매우 중요하게 작용했을 것입니다.

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    xLight의 이사회 의장 겸 General Partner인 Pat Gelsinger는 “현 기술 대비 10배 향상된 에너지 효율적인 EUV 레이저를 구축하는 것은 차세대 무어의 법칙을 주도하고, 핵심적인 국내 역량을 육성하며 팹(fab) 생산성을 가속화할 것”이라고 말했습니다.

    참고로, xLight와 미국 DoC 간에 발표된 이번 LOI는 원칙적인 구속력이 없는 합의입니다. 즉, 양측이 사업을 진전시키고자 하는 의지를 표명한 것이지만, 정부가 자금을 지급하거나 회사가 자금을 받을 것을 의무화하는 것은 아닙니다. 다만, 정부가 예비 평가를 완료하고 잠재적인 자금 지원을 위해 해당 회사를 선정했음을 의미합니다. xLight는 이제 미국 DoC 및 올버니 나노테크 복합단지의 팀과 협력할 예정이므로, 지속적인 진전이 예상됩니다.

    [기술적 핵심]
    xLight는 근본적으로 개선된 광원을 제공합니다. 기존 기술 대비 향상된 성능을 기반으로, xLight는 고출력, 고효율의 EUV 광원을 생성합니다.
    [차별화된 이점]
    이러한 혁신적인 광원은 기존 광원 대비 뛰어난 안정성을 제공합니다. 이는 광원 자체의 물리적 안정성과 시스템 전반의 신뢰성을 크게 향상시켜, 전체 공정의 효율성과 직결됩니다.

    [기술적 구현]
    이 기술은 고반사경 광학 시스템 및 첨단 진공 기술과 통합됩니다. 이로써 xLight는 기존 공정의 한계를 뛰어넘는 신뢰성 높은 솔루션을 제공합니다.

    [핵심 요약]
    xLight는 ① 고출력 및 고효율의 EUV 광원 공급, ② 월등한 광원 안정성 확보를 통해, 최첨단 반도체 제조 공정의 한계를 뛰어넘는 혁신적인 솔루션을 제공하는 핵심 기술입니다.

    [출처:] https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/u-s-government-awards-gelsinger-backed-euv-developer-xlight-with-usd150-million-in-federal-incentives-company-to-develop-new-electron-based-light-source-for-lithography-tools